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供应南京涂料行业超纯水设备 无锡电池行业用超纯水设备 南通化工行业用超纯水设备
所属类别: 工业超纯水处理设备

南京涂料行业超纯水设备 无锡电池行业用超纯水设备 南通化工行业用超纯水设备


应用范围概述:
    电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 电子管生产 电子管阴极涂敷碳酸盐配液 显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水  液晶显示器的生产 屏面需用纯水清洗和用纯水配液 晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片 硅片纯水 光伏硅材料DI超纯水设备-硅圆生长/切片清洗高纯水 硅材料单晶硅DI


涂料行业用超纯水的工艺流程:
    电池行业制备超水的工艺大致分成以下几种:
   1、采用离子交换方式,其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器活性炭过滤器软水器精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点
   2、采用两级反渗透方式,其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器活性炭过滤器软水器精密过滤器→第一级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点   
   3、采用EDI方式,其流程如下:
原水→原水加压泵→多介质过滤器活性炭过滤器软水器精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点 
 

涂料行业用超纯水的工艺比较:
   1、第一种采用离子交换树脂其优点在于初投资少,占用的地方少,但缺点就是需要经常进行离子再生,耗费大量酸碱,而且对环境有一定的破坏性。
   2、第二种采用两级反渗透设备,其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但无须树脂再生。其缺点在于相关膜原件需定期清洗或更换,水质相对来说不是太高,大都只能做到1us/cm左右,所以在不质要求更高的时候常采用一级反渗透后面再用混床(阴阳复床)把关。
   3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置,这是目前制取超纯水最经济,最环保的超纯水制备工艺,不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水,对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。

设备特点:

    为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上,取达国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。
    电子行业超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备.在严格执行ISO-9001国际质量体系标准的前提下,采用世界上最先进的反渗透膜元件.压力容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备,使产品出水符合各类电子行业生产标准的超纯水.控制系统选用PLC或计算机DCS程序控制,可实现自动起停、加药及冲洗,自动监测各种运行参数,并可实现运行参数的储存及打印 广泛适用于: 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯材料和超纯化学试剂 光导纤维、光盘 

达到标准:                 
    纯化水标准,注射水标准 显像管、液晶显示器用纯水水质(经验数据)

    集成电路用纯水水质

    国家电子级纯水标准

    美国SEMI标准

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