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鹤壁市半导体行业产品清洗用超纯水设备
所属类别: EDI超纯水处理设备
设备参数:
  操作压力:1.0Mpa(Mpa)
  水电阻率:18MΩ·cm
  出水量:500L/H
  外形尺寸:160*100*160(cm)
  电压:380(V)
  水质:0.55
  功率:380(w)
  电导率:0.06
  脱盐率:99.999(%)  
  超纯水设备是既将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。在光伏行业电子管生产中,如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,在显像管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,如其配制纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。因此水的质量相当重要。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。    



  EDI高纯水设备作为制取超纯水的设备,作为反渗透设备后的二次除盐设备,可以制取出高达10-18.2MΩ.CM。因此广泛用于微电子工业,半导体工业,发电工业,制药行业和实验室。也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、发电厂的锅炉的补给水,以及其它应用高纯水。

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