半导体行业用超纯水设备工艺:

　　预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(最新工艺)

　　半导体行业用超纯水设备特点:

    为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

    半导体行业用超纯水设备参数:

　　1.原水水源(自来水，地下水井水，河水，湖水...)，除了自来水，其它的水源，需要提供水质报告，水源不一样，处理工艺不一样，费用就有很大的差别；

　　2.配置(需要高端配置还是一般配置，就是指水泵有国产的还是进口的，反渗透膜用海德能的还是陶氏的...)；

　　3.控制(用PLC全自动控制,还是手动控制)；

　　4.出水水质要达到什么标准，电阻率要达到多少，有什么用途，如果不知道，也没关系，告诉我们您是做什么产品的，我们做给您设计出完全符合您生产要求的方案；

　　系统应用场合:

　　☆ 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

　　☆ 电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

　　☆ 电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

　　☆ 显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

　　☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

　　☆ 液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

　　☆ 晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

　　☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片

　　☆ LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

　　☆ 高品质显像管、萤光粉生产

　　☆ 半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

　　☆ 超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

　　☆ 实验室和中试车间

　　☆ 汽车、家电表面抛光处理

　　☆ 光电产品、其他高科技精微产品

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